pvd鍍膜是怎樣的工藝
2、它是一種蒸發真空鍍膜技術,由蒸發、運輸、反應、沉積四個物理反應完成材料鍍膜的過程,可以說是一種替代電鍍的過程。
3、PVD即物理氣相沉積工藝。pvd是指在真空條件下,采用低電壓、大電流的電弧放電技術,利用氣體放電使靶材蒸發并使被蒸發物質與氣體都發生電離,利用電場的加速作用,使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上。
未經授權禁止轉載、摘編、復制或建立鏡像,如有違反,追究法律責任。
網站備案號:粵B2-20040647號-12
舉報郵箱:shenhezhiban@pconline.com.cn
粵公網安備 44010602000157號