PVD真空鍍膜裝飾薄膜常用材料及其常用氣體不同,制作出那些種類裝飾顏色...
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2023-08-28 15:04:20
PVD真空鍍膜裝飾薄膜常用材料及其常用氣體不同,制作出那些種類裝飾顏色...
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gsxq 2023-08-28 15:04:20
氣體選擇：PVD鍍膜過程中，常使用氮氣、氧氣等氣體作為反應氣體。氣體的選擇根據(jù)所需的薄膜成分和性質來確定。 沉積參數(shù)：PVD鍍膜的沉積參數(shù)包括靶材功率、沉積速率、沉積時間、沉積角度等。PVD可以在不銹鋼、銅、鈦 鋅鋁合金等金屬上鍍制CrN. TiN. TiAlCN. TiCN. TiAlN。
實現(xiàn)鈦金、玫瑰金、玫瑰紅、紫金等顏色的薄膜鍍膜通常需要不同的靶材和氣體組合，具體如下： 鈦金薄膜：可以采用Ti、TiAl、TiAlZr等靶材，使用氮氣、氧氣等氣體作為反應氣體。
PVD是英文Physical Vapor Deposition的縮寫，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術。
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